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　　光刻机的原理:光刻机是一种刻蚀工艺设备，该设备工作原理类似电影中，看到的反光镜将靶板背面的亮度高的芯片的部分导入到暗的芯片表面，然后通过机械转动机械装置将光束指示由低到高集中，这样可以得到更多芯片和线路。光刻镜片:光刻镜片的设计也是精密光刻的核心，在光刻机上光刻出rf设备所没有的非金属效果。光刻机还有一个非常重要的部件是光刻胶，光刻胶主要可以包括油性光刻胶、液体光刻胶、碳化硅液体光刻胶、氮化硅液体光刻胶等。